ГК «Лассард» разработала эксимерный лазер, который станет ключевым элементом литографического оборудования для производства чипов с нормами проектирования до 65 нм. Поставки литографов на 130 нм запланированы на 2026 год, а в перспективе — и на 90 нм.
Основной заказчик — завод «Микрон», заинтересованный в масштабировании производства. На данный момент в мире подобное оборудование выпускают только две компании, но Россия может стать третьей страной, где налажено производство лазеров для литографов.
Эксимерные лазеры нужны для создания сверхточных микросхем. С их помощью можно «рисовать» на кремниевых пластинах сложные микроскопические детали, которые потом превращаются в процессоры и другие важные элементы электроники.
